金属层中的气隙（air gap）
在先进工艺节点，金属层中的 气隙（air gap） 往往被忽视，却能在电性能、可靠性甚至良率上带来致命打击。本文从成因、现象、危害到预防措施系统梳理，帮助设计与工艺团队快速识别并规避这一隐患。
一、气隙从何而来？
| 根源类别 | 典型触发因素 |
|---|---|
| 残留气体/杂质 | 金属沉积前腔体真空不足、表面清洗不彻底 |
| 工艺缺陷 | 刻蚀后残留光刻胶、沉积温度/压力漂移 |
| 材料失配 | 金属与阻挡层/介电层热膨胀系数差异大 |
二、气隙的表现信号
- 电性能下降
电阻率升高 → RC 延迟增大、功耗增加。 - 可靠性退化
应力集中 → 裂纹萌生 → 电迁移寿命缩短。 - 信号完整性受损
阻抗不连续 → 反射、串扰恶化，高速链路 BER 飙升。
三、潜在危害一览
| 影响维度 | 后果 |
|---|---|
| 芯片性能 | 频率降低、延迟增加 |
| 可靠性 | 早期失效、现场返修 |
| 功能 | 关键路径断路、功能失效 |
四、系统化预防策略
| 阶段 | 关键动作 |
|---|---|
| 工艺优化 | 高真空沉积、原位等离子体清洗、温度梯度控制 |
| 设备维护 | 定期校准腔体压力/流量、预防性保养泵组 |
| 材料选择 | 低热膨胀系数金属、匹配阻挡层、表面活化处理 |
| 检测手段 | FIB-SEM 截面、TEM 高分辨、超声波扫描（SAM） |
结语
气隙问题并非单一工序失误，而是 材料-工艺-设计 协同失衡的综合体现。
只有在早期设计阶段就引入 DFM 检查，在工艺端建立实时监控，在测试端采用高灵敏度缺陷筛选，才能真正把气隙风险扼杀在晶圆厂内，而不是在市场上。
参考资料：《先进互连技术》《半导体制造缺陷分析》