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Process
半导体制造中的平坦化技术
半导体制造中的平坦化技术
约 100 字
小于 1 分钟
CMP
2011-11-01
1-不平坦的IC表面
2-反刻平坦化
3-BPSG回流平坦化
4-淀积了ILD-2氧化层的旋涂膜层
5-CMP源理
版权所有
许可证:
署名 4.0 国际 (CC-BY-4.0)
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