台积电、三星、Intel先进制程对比

image
台积电、三星、Intel先进制程对比,半导体评断技术实力,看的是晶体管效能、芯片金属层连结及芯片闸密度,后二者台积电都已超越英特尔,一旦台积电二年内在晶体管效能追平英特尔,台积电将可正式跃居全球半导体新霸主地位

转载自网络的内容未用作任何商业用途,如有侵权请告知删除!
本站的原创文章请在转载时注明来源<《芯片版图》

发表评论