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OS

linux下硬盘的编号识别,类似(hd[0-n],y)

今天晚上在从硬盘安装 fedora 14 时, 遇到要在 menu.lst 文件中写入从安装镜像中解压出来的 […]

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Process

光刻中常见的效应和概念

1、驻波效应(Standing Wave Effect)                  现象:在光刻胶曝光 […]

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Process

OPC Mask(光学临近修正掩膜)

今天做用台积0.16um工艺的一个项目Ejob View时发现有些图形会在结尾处的两个直角顶点加两个小小的图形 […]

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EDA

利用calibre自带compare_gds命令进行LVL

这两天在做layout金属改版,改完当然想着要和之前的版本做个比对(即LVL),看看哪些地方改动了,改动了哪些 […]

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OS

使用linux diff命令进行文档比较

在linux中有一个常用命令 diff ,它在文本形式的文档进行比较时特别有用,做为版工在网表比较,结果比较, […]

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wordpress

wordpress首页中不显示指定分类文章

想要如题效果,按以下方法,轻松搞定 在类似 <?php while (have_posts()) : t […]

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wordpress

无插件wordpress自动生成缩略图

昨天试用WPINK这个主题,感觉能自动生成文章缩略图,无图则显示预设图片这个功能不错,所以就拿来主义,三步走。 […]

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Package

IC封装及形式简介

在IC制造过程的后道工序中,通过电测试的硅片要进行单个的芯片装配与封装,而这两个是两种截然不同的过程。在传统工 […]

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Process

半导体中的各种现象和效应

半导体中有许多现象和效应,大概如下所列: 强场效应 --MOS FET的结击穿、绝缘膜击穿、热电不稳定性等 电 […]

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Process

浅槽隔离工艺(STI)

相信很多在现在看工艺厂的相关文档时,会看到有些图上面标有STI的注释,STI是英文 shallow trench isolation的简称,翻译过来为 浅槽隔离 工艺。 STI通常用于0.25um以下工艺,通过利用氮化硅掩膜经过淀积、图形化、刻蚀硅后形成槽,并在槽中填充淀积氧化物,用于与硅隔离.