分类 Process OPC Mask(光学临近修正掩膜) 文章作者 admin 发布日期 2010/12/14 OPC Mask(光学临近修正掩膜)无评论 Post views 2,272 views 今天做用台积0.16um工艺的一个项目Ejob View时发现有些图形会在结尾处的两个直角顶点加两个小小的图形 […] Like 7 likes 标签 OPC, OPC MASK, 光学临近修正