跳至内容

芯片版图

  • Home
  • IC
    • Schematic
    • Layout
    • Process
    • Package
  • EDA&OS
  • Program
    • python
  • wordpress
  • 留言
登录

CMP

CMP后清洗技术进展

2012/8/182011/11/7 作者 admin

摩尔定律的一个重大副作用就是从不明确地确定半导体产业中的技术问题。对目前制造节点完全适用的材料和工艺可能几年后 … 阅读更多

分类 Process 标签 CMP 发表评论

化学机械平坦化CMP

2012/8/182011/11/2 作者 admin

到了20世纪80年代后期,IBM开发了化学机械平坦化(chemical mechanical planariz … 阅读更多

分类 Process 标签 CMP 发表评论

半导体制造中的平坦化技术

2012/8/182011/11/1 作者 admin
分类 Process 标签 CMP 发表评论
chiplayout_2D_code

近期评论

  • admin 发表在《calibredrv create reference cell》
  • admin 发表在《docker和主机之间数据交换》
  • Amber_zhang 发表在《利用Cadence virtuoso layout edit制做pcell》
  • admin 发表在《留言》
  • powertoy 发表在《留言》
  • admin 发表在《Dracula DRC及LVS简介》
  • admin 发表在《Dracula DRC及LVS简介》
  • admin 发表在《calibredrv rdbout用法》
  • admin 发表在《河马说故事教版图之静电卫士》
  • Nqiang1357 发表在《河马说故事教版图之静电卫士》

其他操作

  • 注册
  • 登录
  • 条目 feed
  • 评论 feed
  • WordPress.org
chiplayout_2D_code

.cdslck calibre calibredrv CMP ddr fedora fedora20 fedora22 gds ic ic610 icfb iphone label layoutXL nettran package polycide python qnap salicide SDRAM seo shell skill spice suffix TCL TP transistor twentytwenty ubuntu v2lvs verilog virtuoso windows7 Windows10 wordpress 匹配 半导体 封装 摩尔定律 版图 电梯游戏 集成电路

其他操作

  • 注册
  • 登录
  • 条目 feed
  • 评论 feed
  • WordPress.org
陕ICP备20000710号-1
© 2025 芯片版图 • Built with GeneratePress