分类 Process 半导体工艺中几种常见的光刻方法 文章作者 admin 发布日期 2012/12/30 半导体工艺中几种常见的光刻方法无评论 Post views 685 views 接触式光刻：分辨率较高，但是容易造成掩膜版和光刻胶膜的损伤。 接近式曝光：在硅片和掩膜版之间有一个很小的间隙( […] Like 3 likes 标签 photolithography, 光刻