版图设计规则主要内容以及表示方法

什么是设计规则?考虑器件在正常工作的条件下,根据实际工艺水平(包括光刻特性、刻蚀能力、对准容差等)和成品率要求,给出的一组同一工艺层及不同工艺层之间几何尺寸的限制,主要包括线宽、间距、覆盖、露头、凹口、面积等规则,分别给出它们的最小值,以防止掩膜图形的断裂、连接和一些不良物理效应的出现。芯片上每个器件以及互连线都占有有限的面积。它们的几何图形由电路设计者来确定。(从图形如何精确地光刻到芯片上出发,可以确定一些对几何图形的最小尺寸限制规则,这些规则被称为设计规则)

制定目的:使芯片尺寸在尽可能小的前提下,避免线条宽度的偏差和不同层版套准偏差可能带来的问题,尽可能地提高电路制备的成品率

内容:Design Rule通常包括相同层和不同层之间的下列规定:
最小线宽 Minimum Width
最小间距 Minimum Spacing
最小延伸 Minimum Extension
最小包围 Minimum Enclosure
最小覆盖 Minimum Overlay

表示方法:
以λ为单位:把大多数尺寸(覆盖,出头等等)约定为λ的倍数, λ与工艺线所具有的工艺分辨率有关,线宽偏离理想特征尺寸的上限以及掩膜版之间的最大套准偏差,一般等于栅长度的一半。
优点:版图设计独立于工艺和实际尺寸

You May Also Like

About the Author: admin

发表评论