2020年7纳米制程:摩尔定律的终点站

美国国防部先进研究项目局微系统技术办公室主管罗伯特-克罗韦尔(Robert Colwell)认为,摩尔定律的终结不只对物理界影响巨大,对经济的影响也很大。克罗韦尔称:“我认为是时候为摩尔定律的终结作计划了,不只要...

半导体工艺中几种常见的光刻方法

接触式光刻:分辨率较高,但是容易造成掩膜版和光刻胶膜的损伤。 接近式曝光:在硅片和掩膜版之间有一个很小的间隙(10~25m),可以大大减小掩膜版的损伤,分辨率较低 投影式曝光:利用透镜或反射镜将掩膜版上的...

一颗 45nm CPU的制造过程

沙子 : 硅是地壳内第二丰富的元素,而脱氧后的沙子(尤其是石英)最多包含25%的硅元素,以二氧化硅(SiO2)的形式存在,这也是半导体制造产业的基础。 硅熔炼 : 12英寸/300毫米晶圆级,下同。通过多步净化得到...

美研制出栅长20纳米的新型“4维”晶体管

 据物理学家组织网12月6日(北京时间)报道,美国普渡大学和哈佛大学的研究人员推出了一项极为应景的新发明:一种外形如同一颗圣诞树一样的新型晶体管,其重要组件“门”(栅极)的长度缩减到了突破性的20纳米。这...

CMP后清洗技术进展

摩尔定律的一个重大副作用就是从不明确地确定半导体产业中的技术问题。对目前制造节点完全适用的材料和工艺可能几年后就不够了。问题出自特征尺寸的不断缩小。极细线条中的性能与大块材料的性质能有极大的差别。 ...

化学机械平坦化CMP

到了20世纪80年代后期,IBM开发了化学机械平坦化(chemical mechanical planarization, CMP)的全局平坦化方法。它成为20世纪90年代高密度半导体制造中平坦化的标准。 自20世纪90年代中期以来,化学机械平坦化成...